光電 & 太陽能

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日期:2017/11/29 14:02:48 人氣:2710

    少量未處理的灰塵微粒或者氣體分子可能嚴重影響一些工藝流程。請想象一下污染的空氣對半導體這種高度敏感的制造工藝流程可能産生什麼樣的危害。

    在半導體生産中,前沿的生産技術需要潔淨度很高的空氣,而且這一潔淨度要求還在不斷提高。通常要求晶圓生産環境的灰塵粒徑要小于25nm(2009年),目前這一粒徑值還在減小,預計到2017年将減小到10nm。氣載分子污染物(AMC)也是高級晶圓廠關注的問題。很多氣載分子污染物(AMC)都被證實會影響産品良率。例如,酸性氣體會腐蝕硬盤或晶圓,可凝性有機物的沉降和低濃度氨氣的存在會影響生産操作。

    潔淨室的重心就是空氣過濾設備,根據不同的潔淨室類型,需要考慮使用不同的過濾設備。

    憑借15年以上的微電子和半導體污染控制技術行業經驗以,嘉科能夠提供合理的潔淨空氣解決方案。使以下工藝得到保護:

    晶圓及半導體

    微電子工藝設備

    硬盤驅動

    印刷電路闆

    平闆顯示

    太陽能面闆